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半导体
Chemraz® 513 适用于各类半导体设备干法加工工艺,尤其在需要高密封可靠性且污染要求极低的场合。该材料在静态等离子体、光刻及扩散工艺中表现卓越,适用温度不超过410°F(210°C),且无需承受高密封负荷。其硬度特性可容忍部分硬件表面处理的不一致性。