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半導體
Chemraz® 513 適用於各類半導體設備乾式加工應用,尤其在需確保密封可靠性且污染量極低的工序中表現優異。此材料在靜態等離子體、光刻及擴散製程中具備卓越性能,適用溫度上限為 410°F(210°C),且不適用於高密封負荷工況。其硬度特性可容許部分硬體表面處理的不一致性。