ケムラズ® 551

Chemraz® 551は幅広い耐薬品性を備え、水系およびドライな半導体ウエハー加工プロセス、ならびに化学薬品／DI水供給システム向けの汎用シール材として最適です。高温用途におけるパーフルオロエラストマー材料の中で最も低いアウトガス特性を有するため、よりクリーンなプロセス環境を提供します。表面スティクションが低減されているため、半動的および静的用途に使用可能です。 Chemraz® 551は、572°F（300°C）までの作動温度で安定性を維持し、優れた圧縮永久歪み特性を発揮します。

特長と利点

幅広い化学的適合性
高温対応能力（最大600°F/316°C）
優れた圧縮永久歪み特性により、広範囲の温度・圧力変動および振動下においてもシール性能を維持
能力の幅広さにより、単一材料での標準化が可能となり、在庫品目を削減できる
シール用途におけるより長く優れたシール性能
設備全体の運用コストを削減する
半導体およびウェットプロセスにおける世界最高水準の清浄度

アプリケーション

チャンバーシール
ディスペンシングシール
継手とユニオンシール
フィルターシール
ガス入口／出口シール
ガスケット
ゲート弁シール
遮断弁シール
反応室蓋シール
レギュレータシール
高温給湯器の近傍にあるシール
スリットバルブシール
チューブキャップシール
バルブシール

構成

原子層堆積
電気化学めっき
エピタキシャル堆積
LPCVD（窒化ケイ素、酸化ケイ素）
フォトリソグラフィートラック事前洗浄
RTP（焼鈍、酸化、窒化、ケイ化）
シリコン水インゴット成長
SOIアニール処理
代表的なエッチングおよび成膜用プラズマガス（NF3およびO2を含む）
熱CVD
ウェット洗浄（バッチおよびシングルウェーハ）
ウェットエッチング（酸化物、窒化物、金属）
湿式フォトレジスト剥離（酸、溶剤）

温度範囲

–18°C～324°C（0°F～615°F）

極端な温度、高圧、または特に困難な作動環境に直面するアプリケーション向けに、当社のグローバルエンジニアリングチームは完全なカスタム設計ソリューションを提供します。あらゆる重要環境が異なるため、これらの設計はお客様との緊密な連携のもとで開発されます。最適なソリューション構築のため、ご要件についてご相談ください。

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