Chemraz® XRZ

Le Chemraz® XRZ, un perfluoroélastomère, a été spécialement développé pour dépasser les exigences les plus rigoureuses du nettoyage agressif in situ au plasma NF3. Chemraz® XRZ résiste aux défis d'application généralement rencontrés dans les chambres de traitement HDPCVD (dépôt chimique en phase vapeur à haute densité), PECVD (CVD amélioré par plasma) et PEALD (dépôt de couche atomique amélioré par plasma) plus récentes. Grâce à sa structure composite moléculaire unique, Chemraz® XRZ offre la plus haute résistance au plasma disponible pour les processus au plasma fluoré, ce qui se traduit par une contamination minimale. Cela se traduit par une meilleure intégrité et une durée de vie plus longue des joints, ce qui réduit les temps d'arrêt et augmente le rendement du traitement des plaquettes. Chemraz® XRZ peut être utilisé pour les applications de traitement statique et semi-dynamique des plaquettes sèches, telles que la gravure, le dépôt (CVD, HDPCVD, PEALD) et le nettoyage par plasma à distance. Chemraz® XRZ reste stable à des températures de fonctionnement allant jusqu'à 572 °F (300 °C) tout en conservant une résistance exceptionnelle à la compression.