Chemraz® XRZ

Chemraz® XRZ 作為一種全氟彈性體，專為超越最嚴苛的原位氮化氟等離子體清洗需求而開發。 Chemraz® XRZ 能夠承受高密度等離子化學氣相沉積 (HDPCVD)、等離子強化化學氣相沉積 (PECVD) 以及新型等離子強化原子層沉積 (PEALD) 製程腔室中常見的應用挑戰。憑藉其獨特的分子複合結構，Chemraz® XRZ 為氟等離子製程提供業界最高等級的等離子抗性，從而將污染降至最低。 此特性可提升密封完整性與延長密封壽命，減少停機時間並提高晶圓製程良率。Chemraz® XRZ適用於靜態與半動態乾式晶圓製程應用，包含蝕刻、沉積（CVD、HDPCVD、PEALD）及遠端等離子體清洗。在高達572°F（300°C）的操作溫度下，Chemraz® XRZ仍能保持穩定性並維持卓越的壓縮永久變形性能。