Chemraz® XRZ

Chemraz® XRZ是一种全氟弹性体，专为满足苛刻的原位NF3等离子体清洗要求而开发，其性能超越最严苛的标准。 Chemraz® XRZ 能够应对高密度等离子体化学气相沉积 (HDPCVD)、等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 以及新型等离子体增强原子层沉积 (PEALD) 工艺腔室中常见的应用挑战。凭借其独特的分子复合结构，Chemraz® XRZ 提供目前氟等离子体工艺中最高的等离子体耐受性，从而将污染降至最低。 由此提升密封完整性并延长密封寿命，减少停机时间，从而提高晶圆加工良率。Chemraz® XRZ可用于静态及半动态干法晶圆加工应用，包括刻蚀、沉积（CVD、HDPCVD、PEALD）及远程等离子清洗。该材料在高达572°F（300°C）的工作温度下保持稳定，同时具备卓越的压缩永久变形性能。