Chemraz® 663
Chemraz® 663 作為一種全氟彈性體（FFKM），專為耐受低溫蝕刻與沉積應用而設計，在這些應用中，等離子體耐受性與真空環境下維持密封力的能力至關重要，例如靜電吸盤組件。
功能與優勢
低溫下卓越的等離子體性能
應用程式
- 沉積作用
- 導體蝕刻
- 介電蝕刻
- 靜電吸盤（ESC）
- 低溫、真空環境
配置
- 靜電吸盤（ESC）
- 低溫
- 真空環境
溫度範圍
–40°C 至 180°C（–40°F 至 356°F）
針對面臨極端溫度、高壓或特殊挑戰性操作環境的應用，我們的全球工程團隊提供完全客製化的解決方案。由於每個關鍵環境皆不相同，這些設計皆在與您密切協作下開發——讓我們共同探討您的需求，打造最合適的解決方案。
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