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Catalogue des produits et matériaux
Chemraz® FFKM
Chemraz® XCD
Chemraz® XCD est un perfluoroélastomère.
Chemraz® FFKM

Chemraz® XCD

Semi-conducteur

Le Chemraz® XCD, un élastomère perfluoré, est spécialement conçu pour dépasser les exigences les plus rigoureuses des équipements de traitement thermique des semi-conducteurs en amont. Le Chemraz® XCD résiste aux conditions thermiques extrêmes que l'on rencontre généralement dans les systèmes LPCVD (dépôt chimique en phase vapeur à basse pression), RTP (traitement thermique rapide) et de dépôt épitaxial. Grâce à sa structure unique de polymère et de charge, Chemraz® XCD offre la plus faible déformation rémanente après compression à des températures de fonctionnement élevées (> 572 °F/300 °C) de tous les perfluoroélastomères disponibles sur le marché, ce qui se traduit par une meilleure intégrité et une durée de vie plus longue des joints. Cela signifie une réduction des temps d'arrêt et un rendement plus élevé dans le traitement des plaquettes. Avec le profil de dégazage le plus faible pour les matériaux perfluoroélastomères dans les applications à haute température, Chemraz® XCD offre un environnement de traitement plus propre. Grâce à sa friction superficielle réduite, Chemraz® XCD peut être utilisé pour des applications d'étanchéité semi-dynamiques et statiques. Chemraz® XCD reste stable à des températures de fonctionnement allant jusqu'à 572 °F (300 °C) tout en conservant une déformation rémanente exceptionnelle.

Caractéristiques et avantages
  • Une résistance exceptionnelle à la chaleur extrême élargit les budgets thermiques
  • Une compression minimale à des températures élevées garantit une intégrité prolongée de l'étanchéité.
  • Une grande pureté et un dégazage réduit garantissent un traitement plus propre.
  • La réduction de l'adhérence augmente la longévité dans les applications semi-dynamiques et facilite l'installation et le retrait.
Applications
  • Joints de chambre
  • Joints d'entrée/sortie de gaz
  • Joints pour vannes à guillotine
  • Joints pour vannes d'isolation
  • Joints d'étanchéité pour couvercle de chambre de réaction
  • Joints à proximité immédiate de réchauffeurs de plaquettes à haute température
  • Joints d'étanchéité à fente pour soupapes
  • Joints d'étanchéité pour bouchons de tubes
  • LPCVD (nitrure de silicium, oxyde de silicium)
  • RTP (recuit, oxydation, nitruration, silicidation)
  • Dépôt épitaxial
  • CVD thermique
  • Dépôt par couche atomique
  • Croissance de lingots de plaquettes de silicium Recuit SOI
Configurations
  • Joints de chambre
  • Joints d'entrée/sortie de gaz
  • Joints pour vannes à guillotine
  • Joints pour vannes d'isolation
  • Joints d'étanchéité pour couvercle de chambre de réaction
  • Joints à proximité immédiate de réchauffeurs de plaquettes à haute température
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