Chemraz® G57

¿Necesita juntas de procesamiento de obleas diseñadas a medida que satisfagan las exigencias de los agresivos sistemas de plasma seco? La fórmula exclusiva de Chemraz® G57 ofrece una mayor resistencia al plasma y minimiza la contaminación, lo que se traduce en menos tiempo de inactividad y un mayor rendimiento en el procesamiento de obleas, tanto en aplicaciones estáticas como dinámicas.

Chemraz® G57 es un compuesto FFKM con capacidad para altas temperaturas y excelente compatibilidad con plasma de O2, que ofrece una excelente resistencia química y una temperatura máxima de funcionamiento de 572 °F (300 °C).

Características y ventajas

Excelente resistencia al plasma en una variedad de entornos químicos agresivos.
Altas temperaturas de servicio de hasta 572 °F / 300 °C
Particulación mínima
Menor dureza para facilitar la instalación.
Menores propiedades adhesivas para aplicaciones dinámicas
Disponible en forma de junta tórica, CX personalizados y placas, sin restricciones de disponibilidad.
Capacidades de fabricación globales

Aplicaciones

Ventanas de punto final
Sellos
Grabado por plasma Dy
Deposición
Metalización
Limpieza por plasma remoto
Incineración en seco
Oxidación
Difusión

Configuraciones

Ventanas de punto final
Sellos de campana de cristal
Juntas de válvulas
Juntas para racores KF
Juntas para ventanas
Juntas de válvulas aislantes
Juntas de tapa
Juntas de entrada de gas
Juntas de válvula ranuradas
Sellos de cámara

Recursos

Chemraz® G57 Contaminación mínima en procesos de grabado con plasma seco

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