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Catálogo de productos y materiales
Chemraz® FFKM
Chemraz® XPE
Chemraz® XPE es altamente resistente al plasma de O2.
Chemraz® XPE es altamente resistente al plasma de O2.
Chemraz® FFKM

Chemraz® XPE

Semiconductores

El Chemraz® XPE de Greene Tweed es muy resistente al plasma de O2 y se puede utilizar en una amplia gama de aplicaciones, como puertas de válvulas de hendidura, juntas de tapas de cámaras de reacción y juntas de válvulas de compuerta. Este avanzado material elastomérico ofrece a la industria de los semiconductores y la energía solar una alternativa a los productos tradicionales que se erosionan rápidamente en entornos con oxígeno. Con una excelente resistencia tanto al plasma de O2 como al de CF4, este material permite aumentar el rendimiento de los chips y maximizar la producción. Además, las juntas XPE proporcionan a los clientes un mayor MTBR (tiempo medio entre reparaciones) para reducir el tiempo de inactividad y los costes de mantenimiento.

Características y ventajas
  • La capacidad para altas temperaturas permite el desarrollo de tecnologías futuras y aplicaciones de última generación.
  • Resistencia superior al plasma de O2 que mejora la integridad del producto.
  • Alta resistencia plasmática al CF4
  • Reducción de la pérdida de peso del producto
  • Menores requisitos de mantenimiento y sustitución.
  • Excelente rendimiento de compresión
Aplicaciones
  • Juntas de válvulas de cámara y ranura
  • Ventanas de punto final
  • Juntas de entrada/salida de gas
  • Juntas para válvulas de compuerta y válvulas aislantes
  • Sellos del sistema de suministro de reactivos
  • Juntas de la tapa de la cámara de reacción
Configuraciones
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  • Juntas para válvulas de cámara y ranura
  • Ventanas de punto final
  • Juntas de entrada/salida de gas
  • Juntas para válvulas de compuerta y válvulas aislantes
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