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半導體
Chemraz® 629 FFKM 係由 Greene Tweed 專為滿足侵蝕性等離子系統的嚴苛需求而研發。其獨特配方在氧氣與氟氣等離子製程中展現卓越的抗等離子性能,可有效降低污染物殘留、減少設備停機時間,並提升晶圓製程良率。
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