Chemraz® 629 FFKM wurde von Greene Tweed speziell für die hohen Anforderungen aggressiver Plasmasysteme entwickelt. Seine einzigartige Zusammensetzung bietet eine verbesserte Plasmabeständigkeit in Sauerstoff- und Fluorplasmaprozessen, was zu minimaler Kontamination, weniger Ausfallzeiten und höheren Wafer-Verarbeitungserträgen führt.
Für Anwendungen, die extremen Temperaturen, hohem Druck oder besonders anspruchsvollen Betriebsbedingungen ausgesetzt sind, liefert unser globales Ingenieurteam vollständig maßgeschneiderte Lösungen. Da jede kritische Umgebung anders ist, werden diese Konstruktionen in enger Zusammenarbeit mit Ihnen entwickelt – lassen Sie uns Ihre Anforderungen besprechen, um die richtige Lösung zu finden.