Chemraz® G20 提供專為靜態與動態應用設計的高性能真空密封件。Chemraz® G20 密封件經工程優化,能在嚴苛環境中展現卓越性能,確保最佳效能與使用壽命。無論是維持關鍵真空性能或保護精密等離子體製程,Chemraz® G20 密封件皆能提供無與倫比的可靠性。 Chemraz® G20 作為頂尖等離子體耐受材料,適用於記憶體與邏輯積體電路製造的全部製程,其性能表現超越 7 奈米製程整合技術。本產品為真空腔體中的靜態與動態應用提供密封解決方案,通常用於 O 型環結構。
針對面臨極端溫度、高壓或特殊挑戰性操作環境的應用,我們的全球工程團隊提供完全客製化的解決方案。由於每個關鍵環境皆不相同,這些設計皆在與您密切協作下開發——讓我們共同探討您的需求,打造最合適的解決方案。