Chemraz® G20は、静的および動的用途向けに設計された高性能真空シールを提供します。Chemraz® G20シールは、過酷な環境下でも優れた性能を発揮するよう設計されており、最適な性能と長寿命を保証します。重要な真空性能の維持から、プラズマベースのプロセス保護まで、Chemraz® G20シールは比類のない信頼性を提供します。 Chemraz® G20は、メモリおよびロジックIC製造における全プロセスで使用可能な、クラス最高のプラズマ耐性材料です。7nmプロセス統合技術を超える性能能力を備えています。Chemraz® G20は、チャンバー内の静的・動的用途向け真空シールを提供し、主にOリングとして使用されます。
極端な温度、高圧、または特に困難な作動環境に直面するアプリケーション向けに、当社のグローバルエンジニアリングチームは完全なカスタム設計ソリューションを提供します。あらゆる重要環境が異なるため、これらの設計はお客様との緊密な連携のもとで開発されます。最適なソリューション構築のため、ご要件についてご相談ください。