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半導体
ケムラズ® G38は、シール信頼性と最小限の汚染が不可欠な高密度プラズマシステム向けに開発されました。優れた化学的適合性を提供し、様々な強酸性・強アルカリ性化学薬品に耐えます。多様な形状と断面形状で提供されるケムラズ® G38は、動的または静的なドライプロセス用途に必要な多様性を実現します。スリットバルブおよび最大437°F(225°C)までの長期使用温度に推奨されます。